Электронная почта: info@navan-machine.com            Телефон: +86-15601563990 WhatsApp: +86-13776262858
Различия между оборудованием для сверхчистой воды и оборудованием для чистой воды
Вы здесь: Дом » Блоги » Знание оборудования » Различия между оборудованием для сверхчистой воды и оборудованием для чистой воды

Различия между оборудованием для сверхчистой воды и оборудованием для чистой воды

Просмотры:0     Автор:Pедактор сайта     Время публикации: 2024-10-28      Происхождение:Работает

Запрос цены

Оборудование для сверхчистой воды использует методы предварительной очистки, обратного осмоса (RO), ультраочистки и последующей обработки, чтобы практически исключить проводящие среды из воды. Он также удаляет недиссоциированные коллоиды, газы и органические вещества до очень низких уровней.

48

Оборудование для чистой воды в основном использует мембранную технологию обратного осмоса. Его принцип заключается в том, чтобы оказать давление на воду, чтобы молекулы воды и ионизированные минеральные элементы прошли через мембрану обратного осмоса. Большинство растворенных неорганических солей (в том числе тяжелых металлов), органических веществ, бактерий и вирусов не могут пройти через мембрану, что обеспечивает строгое разделение очищенной воды и концентрированной воды. Размер пор мембраны RO составляет всего 0,0001 микрона, тогда как вирусы варьируются от 0,02 до 0,4 микрона, а бактерии - от 0,4 до 1 микрона.



1. Различные приложения

(1) Оборудование для сверхчистой воды:

А. Производство и очистка сверхчистых материалов и реагентов.

Б. Производство и очистка электронной продукции.

C. Производство аккумуляторной продукции.

D. Производство и очистка полупроводниковой продукции.

E. Изготовление и очистка печатных плат.

F. Производство другой высокотехнологичной прецизионной продукции.


(2) Оборудование для чистой воды:

А. Химическая очистка воды на электростанциях.

B. Сверхчистая вода для электроники, полупроводников и точного машиностроения.

C. Подготовка воды для пищевых продуктов, напитков и питьевой воды.

D. Небольшие станции чистой воды и групповая питьевая вода.

E. Вода для тонкой химии и передовых научных областей.

F. Подготовка воды высокой чистоты для различных отраслей промышленности.

G. Технологическая вода для фармацевтической промышленности.

H. Опреснение морской и солоноватой воды.


2. Различная проводимость воды.

  • Сверхчистая вода: Удельное сопротивление выходной воды составляет >15 МОм·см, в соответствии с отраслевыми стандартами от 0,5 МОм·см до 18 МОм·см, в зависимости от требуемого качества воды.

  • Чистая вода: Она подразделяется на промышленную чистую воду и питьевую чистую воду.

    В 25℃,

  • Обычная чистая вода: EC = 1~10 мкСм/см.

  • Вода высокой чистоты: EC = 0,1~1,0 мкСм/см.

  • Сверхчистая вода: EC = 0,1~0,055 мкСм/см.

  • Питьевая чистая вода: EC=1~10 мкСм/см (национальный стандарт).


3. Различные технологические процессы

IMG_7787

Технологические процессы оборудования для сверхчистой воды:

(1) Традиционный процесс:

· Система предварительной обработки → Система обратного осмоса → Промежуточный резервуар для воды → Грубый смешанный слой → Мелкий смешанный слой → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → УФ-стерилизатор → Полировка смешанного слоя → Фильтр тонкой очистки → Потребитель воды (≥18 МОм.см).

· Система предварительной очистки → Система обратного осмоса → Промежуточный резервуар для воды → Насос чистой воды → Грубый смешанный слой → Мелкий смешанный слой → УФ-стерилизатор → Прецизионный фильтр → Точка потребления воды (≥15 МОм·см)


(2) Последние процессы:

· Предварительная обработка → RO → Промежуточный резервуар → Насос → Блок EDI → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → УФ-стерилизатор → Полировка смешанного слоя → Фильтр тонкой очистки 0,2 или 0,5 мкм → Потребитель воды (≥18 МОм.см).

· Предварительная очистка → RO → Регулировка PH → Промежуточный бак → Вторая ступень RO (ОО-мембрана с положительным зарядом) → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → Блок EDI → УФ-стерилизатор → Фильтр тонкой очистки 0,2 или 0,5 мкм → Пользователь воды (≥ 17 МОм·см).

· Предварительная обработка → RO → Промежуточный резервуар → Насос → Блок EDI → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → УФ-стерилизатор → Фильтр тонкой очистки 0,2 или 0,5 мкм → Потребитель воды (≥15 МОм.см).


Технологические процессы оборудования для очистки чистой воды:

(1) Метод ионного обмена:

· Сырая вода → Насос сырой воды под давлением → Мультимедийный фильтр → Фильтр с активированным углем → Смягчитель воды → Фильтр тонкой очистки → Слой катионной смолы → Слой анионной смолы → Слой смешанной смолы → Микропористый фильтр → Водяная точка.

(2) Двухэтапный метод обратного осмоса:

· Сырая вода → Насос сырой воды под давлением → Мультимедийный фильтр → Фильтр с активированным углем → Смягчитель воды → Фильтр тонкой очистки → Первая ступень RO → Регулировка PH → Промежуточный бак → Вторая ступень RO (мембрана с положительным зарядом) → Резервуар для чистой воды → Насос чистой воды → Фильтр микропор → Точка подачи воды.

(3) Метод ЭОД:

· Сырая вода → Насос сырой воды под давлением → Мультимедийный фильтр → Фильтр с активированным углем → Смягчитель воды → Фильтр тонкой очистки → Первая ступень RO → Промежуточный резервуар → Промежуточный насос → Система EDI → Микропоровый фильтр → Точка подачи воды.



 

Электронная почта: info@navan-machine.com

Телефон: +86-15601563990
                      +86-512-58621580
Вацап: +86-13776262858
Адрес: Особняк HengLong, № 50 RenMin MiddleRoad, город Чжанцзяган, Цзянсу, Китай

Быстрые ссылки

Связаться

Авторские права © 2023 BETA PLASTIC MACHINERY Все права защищены. Sitemap.Поддержка со стороны leadong.com. политика конфиденциальности.